全自動(dòng)燙金機(jī)光致抗蝕材料導(dǎo)電層制作

　　彩虹全息圖的記錄材料通常用一種光致抗蝕材料，而制造全息金屬模版的第一步是在光致抗蝕的全息圖表面形成一個(gè)金屬導(dǎo)電層。這層金屬導(dǎo)電層的作用有兩條：

　　第一，通過在光致抗蝕劑表面沉積極微細(xì)的金屬顆粒，可將浮雕全息圖上的干涉紋槽真實(shí)地轉(zhuǎn)移到金屬表面上，形成全息金屬模版的雛形。

　　第二，光致抗蝕劑表面的導(dǎo)電層在以后的加厚電鑄中作為陰極芯，將吸引源源不絕的離子在其上進(jìn)行沉積，達(dá)郅加厚的目的。

　　在光致抗蝕劑表面形成金屆導(dǎo)電層通常有以下幾種方法。

　?、僬婵斟冦y

　　這種方法適宜制造尺寸較小的金屬模版，其操作程序是把仔細(xì)處理過的光致抗蝕劑全息圖面朝下固定在真空室的頂部，從底部蒸發(fā)純凈的銀，使其在全息圖表面沉積。為了獲得牢固而致密的導(dǎo)電層，除對(duì)真空鍍膜機(jī)性能有較高要求外，還需要使用循環(huán)液態(tài)氦以獲得0.067Pa以上的高真空度。這種工藝效率較低，而且當(dāng)幸息圖尺寸超過152.4mmx152.4mm時(shí)，就難以獲得均勻的導(dǎo)電層。

　?、诨瘜W(xué)鍍銀

　　化學(xué)鍍銀是在非金屆材料表面形成導(dǎo)電層的最常用方法之一。它的基本化學(xué)過程是所謂的銀鏡反應(yīng)。

　　化學(xué)鍍銀是兩步授潰過程。第一步要對(duì)被鍍表而敏化，常用的敏化劑逛氯化亞錫溶液。通過敏化處理被鍍而吸附一層易于氧化的金屬離子，能引發(fā)金屬銀的快速均勻沉積，并提高鍍層與基材的結(jié)合強(qiáng)度。第二步通過在鍍液中浸漬實(shí)現(xiàn)銀的沉積?；瘜W(xué)鍍銀配方很多，一般在專業(yè)書籍中均能查到。研究表明，鍍液配方和工藝規(guī)范對(duì)導(dǎo)電層的質(zhì)量影響遵循以下幾條規(guī)律：增大Ag+濃度可提高平均沉積速度，特別當(dāng)濃度低于30mg分子時(shí)，影響尤為顯著；增大鍍液值，可使平均沉積速度加快，但當(dāng)時(shí)，鍍層開始變化；增大氨的濃度，起始沉積速度減小，但溶液穩(wěn)定性和鍍層厚度增加；增大葡萄糖的濃度，可加快平均沉積速度，但鍍層最大厚度減小；加入適里穩(wěn)定劑，可控制沉積速度和鍍液的分解反應(yīng)，延長(zhǎng)鍍液的半衰期；升高鍍液工作溫度，銀的沉積速度加快，但本體反應(yīng)也加快，因此反應(yīng)應(yīng)在最低溫度下進(jìn)行。

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　　噴銀的反應(yīng)機(jī)理與化學(xué)鍍銀相同，只是在操作上不是通過浸潰，而是將A液和B液通過一個(gè)帶兩個(gè)噴嘴的噴槍同時(shí)噴射到光致抗蝕劑表面上，使還原的銀迅速沉積。在噴鍍時(shí)，通常要使被鍍層處于高速旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，可以獲得均勻的導(dǎo)電層。這種方法生產(chǎn)效率較高，還適合制造大尺寸的全息金屬模版。

　?、芑瘜W(xué)鍍鎳

　　化學(xué)鍍鎳也是一種氧化還原反應(yīng)。它和化學(xué)鍍銀在工藝上的差別是，化學(xué)鍍鎳分為兩個(gè)步驟。第一步是在鍍銀前處理中除了需要敏化之外，還需要做活化處理。所謂活化實(shí)際上是“播晶種”，即在敏化后的被鍍表面上禪置換一層高活性的金屬微粒作為催化中心。在化學(xué)鍍鎳中常用的活化劑逛氧化鈀，活化時(shí)間為1-2min。第二步是在加熱的容器內(nèi)通過浸漬做化學(xué)鍍鎳。